Title of Paper:微立体光刻压电陶瓷的形变预测与补偿研究

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Affiliation of Author(s):航空学院

Journal:电子元件与材料

Key Words:微立体光刻;压电陶瓷;几何精度;形变补偿;压电性能;

Abstract:现有微立体光刻技术制备的压电陶瓷普遍存在密度小、 性能低、 几何精度难以精确控制等问题。 本文通过设计陶瓷浆料各组分之间的成分比例, 控制光固化参数和热处理工艺, 建立几何形变的数学预测和补偿模型, 制备了致密性高、 形状复杂的压电陶瓷, 提高了压电陶瓷在光固化、 脱脂、 烧结过程中的几何精度。 实验表明: 当压电陶瓷(PZT-5H)浆料质量分数为 75% 时, 坯体烧结后的密度为7.35 g/cm3; 在2 kV/mm 的极化电压下, 压电常数d33为 600 pC/N, 相对介电常数为2875, 性能得到提升; 经过几何形变补偿, 压电陶瓷的几何精度可以提高80% 。

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Date of Publication:2019-04-19

Co-author:张园豪,陈韦岑

Correspondence Author:Dawei Wu