Affiliation of Author(s):自动化学院
Journal:第十八届全国等离子体科学技术会议摘要集
Key Words:介质阻挡放电;共面放电;单丝放电;
Abstract:介质阻挡放电(DBD)能很容易地产生高活性的低温等离子体,其在材料表面处理、等离子体光源、臭氧产生及环保领域等具有广泛的应用。介质阻挡放电可分为三种基本结构,即体放电(VDBD)、沿面放电(SDBD)和共面放电(CDBD)。相对于板板式体放电,在进行表面处理时,共面放电由于能在介质表面产生薄层等离子体区,对处理样品的介电常数和厚度无要求。另外,相对于沿面放电,共面放电的电极全都掩埋在绝缘介质中,避
Translation or Not:no
Date of Publication:2017-07-26
Co-author:黄国旺,程文馨,Zhang Charles
Correspondence Author:Shuqun Wu
Professor
Supervisor of Doctorate Candidates
Gender:Male
Alma Mater:华中科技大学
Education Level:华中科技大学
Degree:Doctoral Degree in Engineering
School/Department:College of Automation Engineering
Discipline:电气工程. High Voltage and Electrical Insulation Engineering
Business Address:南京市江宁区将军大道29号，南京航空航天大学自动化学院3号楼
Contact Information:邮箱：wushuqun@nuaa.edu.cn；电话：13305143147
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