改变旋涂速率制备有序介孔SiO2薄膜结构的正电子湮没和X射线反射率技术表征
Date:2025-10-09 clicks:
Journal:第十届全国正电子湮没谱学会议论文集
Page Number:62-63
Translation or Not:no
Date of Publication:1905-07-01
First Author:张鹏,qinxiubo, 马敏阳, 于润升, 贾全杰, 王宝义, 魏龙
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School/Department:材料科学与技术学院
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Degree:Doctoral Degree in Science
Professional Title:Researcher
Alma Mater:中国科学院高能物理研究所
Journal:第十届全国正电子湮没谱学会议论文集
Page Number:62-63
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Date of Publication:1905-07-01
First Author:张鹏,qinxiubo, 马敏阳, 于润升, 贾全杰, 王宝义, 魏龙