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  • 硕士生导师
  • 招生学科专业：
    材料科学与工程 -- 【招收硕士研究生】 -- 材料科学与技术学院
    材料与化工 -- 【招收硕士研究生】 -- 材料科学与技术学院
    能源动力 -- 【招收硕士研究生】 -- 材料科学与技术学院
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  • 所在单位：材料科学与技术学院
  • 学历：南京航空航天大学
  • 办公地点：将军路校区东区材料楼A309西
  • 性别：男
  • 联系方式：15951894121
  • 学位：工学博士学位
  • 职称：副教授
  • 毕业院校：南京航空航天大学
论文成果
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二硫化钼薄膜的刻蚀方法及其应用
  • 点击次数：
  • 所属单位：材料科学与技术学院
  • 发表刊物：化学进展
  • 关键字：二硫化钼;刻蚀;单层;场效应晶体管;光电器件;
  • 摘要：过渡金属硫化物因能带结构与层数具有明显的依赖关系而受到广泛关注,尤其是二维二硫化钼MoS 2 )薄膜因其优良的光电性能而成为研究热点。目前,化学气相沉积法（CVD）和剥离法已成为制备MoS 2 薄膜的主要方法,但这两种方法均存在难以精确控制MoS 2 层数的问题,研究证实通过刻蚀手段能够对MoS 2 薄膜层数进行进一步加工,从而得到单层或特定层数的样品。本文综述了基于不同刻蚀原理的MoS 2 薄膜刻蚀技术的国内外研究进展,分析讨论了不同刻蚀技术对刻蚀后MoS 2 薄膜质量的影响,介绍了MoS 2 刻蚀方法在场效应晶体管（FET）以及其他光电器件领域的实际应用和发展前景,最后对将来研究中需要着力解决的问题进行了展望。
  • 是否译文：否
  • 发表时间：2018-06-24
  • 合写作者：奚清扬,李子全,朱孔军,台国安,宋若谷
  • 通讯作者：刘劲松
  • 发表时间：2018-06-24
版权所有©2018- 南京航空航天大学·信息化处（信息化技术中心）

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